Swagelok®ALD(原子層蒸着)用バルブ
Swagelok超高純度用ALD(原子層蒸着)用バルブは、非常に優れたサイクル・ライフ、高速作動、流量、高温対応性、極めて高い清浄度を備えており、最先端の半導体製造アプリケーションにおいて正確なプリカーサーの供給を実現し、デバイスの歩留まりを最大化します。
ALD用バルブについて問い合わせるSince introducing the world to ALD valves, we have worked closely with semiconductor tool OEMs and fabs to deliver advanced ALD valve technology that provides the extreme levels of precision, consistency, cleanliness, and high cycle life necessary to keep up with the quick pace of innovation in the marketplace. Swagelok® ALD valves can support increased chip production efficiency and overcome the challenges that are often associated with ALD processes.
Our ALD ultrahigh-purity valves feature:
- Ultrahigh cycle life with high-speed actuation
- Cv ranging from 0.27 to 1.7
- Temperature capability up to 392°F (200°C) for specified models
- Electronic or optical actuator position-sensing option
- Cleanliness suitability for ultrahigh-purity applications
- Modular surface mount, tube butt weld, and VCR® end connections
Atomic Layer Deposition (ALD) Valves Categories
Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD3 and ALD6 Series
ALD3 and ALD6 diaphragm valves offer ultrahigh cycle life, high-speed actuation, and strong performance in atomic layer deposition applications.
Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD7 Series
The Swagelok® ALD7 ultrahigh-purity diaphragm valve offers the precision and consistency needed to maximize chip yields in semiconductor manufacturing applications.
Ultrahigh-Purity Valves for High-Flow Applications, ALD20 Series
Advance atomic layer deposition technology with flow rates 2–3x higher than other ALD valves with the ALD20 ultrahigh-purity valve.
ALD(原子層蒸着)用バルブのカタログ
構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報につきましては、以下の資料をご参照ください。
원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
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