Swagelok® Atomschichtsedimentierungsventile (Atomic Layer Deposition - ALD)
Swageloks ultrahochreine Atomschichtsedimentierungsventile (ALD) liefern eine besonders hohe Zyklusdauer, hohe Betätigungsgeschwindigkeit und Durchflussraten, thermische Eintauchdichtheit und extreme Sauberkeit, die für die präzise Dosiering in fortgeschrittenen Halbleiterproduktions-Anwendungen erforderlich sind.
Weitere Informationen anfordernUnsere Hochleistungs-ALD-Ventile sind ein wichtiges Beispiel dafür, wie Swagelok bereits seit langem in der Halbleiterproduktion technisch führend ist. Seit der Einführung der ALD-Ventiltechnologie arbeitet Swagelok eng mit Kunden in der Halbleiterbranche zusammen, um deren Bedürfnisse zu verstehen und dann ALD-Ventile zu entwickeln, welche die höchste Genauigkeit, Konsistenz, Sauberkeit und eine lange Zyklusdauer liefern, die notwendig ist, um mit dem schnellen Innovationstempo auf dem Markt schritthalten zu können. Unsere ultrahochreinen ALD-Ventile bieten Folgendes:
- Besonders hohe Zykluslebensdauer bei hoher Betätigungsgeschwindigkeit
- Durchflusskoeffizienten (Cv) von 0,27 bis 1,7
- Vollständige Eintauchbarkeit bis 200°C (392°F) mit Hochtemperatur-Steuerköpfen
- Geeignet für ultrahochreine Anwendungen mit Körper aus Edelstahl 316L VIM-VAR
- Modulare Flächenmontage, Stumpfschweißenden und Swagelok VCR®-Endanschlüsse
- Optionaler elektronischer oder optischer Steuerkopf-Stellungsmelder
Kategorien
Ultrahochreine Membranventile - Serien ALD3 und ALD6
ALD3 und ALD6 Membranventile liefern ultrahohe Lebenszyklen, hohe Betätigungsgeschwindigkeiten und starke Leistung in Anwendungen mit Atomlagenabscheidung.
Ultrahochreine Membranventile für Anwendungen mit hohem Durchfluss, Serie ALD20
Das ultrahochreine ALD20-Ventil überschreitet die Grenzen der Atomlagenabscheidungsventiltechnologie, die zwei- oder dreimal höher sind als die Mengen, die mit den heutigen Standard-ALD-Ventilen erreicht werden können.
Ultrahochreine Membranventile, Serie ALD7
Das ultrahochreine Swagelok ALD7 Membranventil bietet die Präzision und Konsistenz, um Chiperträge in Halbleiterproduktionsanwendungen zu maximieren.Atomschichtsedimentierungsventile (Atomic Layer Deposition - ALD)—Kataloge
Finden Sie detaillierte Produktinformationen, einschließlich Werkstoffe, Druck- und Temperaturbereiche, Optionen und Zubehör.
Besonders hohe Zykluslebensdauer bei hoher Betätigungsgeschwindigkeit; Cv-Bereich von 0,27 bis 0,62; Mit Hochtemperatursteuerköpfen einsetzbar bis 200°C (392°F); Optionaler elektronischer Steuerkopf-Stellungsmelder; Geeignet für ultrahochreine Anwendungen mit Körper aus Edelstahl 316L VIM-VAR; VCR®, Stumpfschweißenden und modulare Bauteile für Flächenbefestigung
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