Swagelok® 원자층 증착(ALD) 밸브
Swagelok 초고순도 원자층 증착(ALD) 밸브는 첨단 반도체 제조 애플리케이션에서 정밀한 투입량을 보장하고 칩 수율을 극대화하는 데 필요한 극도로 높은 사이클 수명, 고속 작동, 유량, 고온 봉입성(thermal immersibility), 극한의 청정도를 제공합니다.
ALD 밸브 정보 요청Swagelok은 세계에 ALD 밸브를 선보인 이래로, 반도체 도구 장비사 및 제조업체와 면밀한 협력을 통해 시장의 빠른 혁신 속도에 대응하는 데 필요한 극한 수준의 정밀도, 일관성, 청정도, 높은 사이클 수명을 제공하는 첨단 ALD 밸브 기술을 공급하고 있습니다. Swagelok® ALD 밸브는 높은 칩 생산 효율을 지원하며, 일반적으로 ALD 공정과 관련된 문제를 극복할 수 있습니다.
Swagelok ALD 초고순도 밸브의 특징:
- 고속 작동과 극도로 높은 사이클 수명
- 0.27~1.7의 Cv 범위
- 특정 모델의 경우 최고 200°C(392°F)의 온도 지원
- 전자식 또는 광학식 액추에이터 위치 감지 옵션
- 초고순도 애플리케이션에 적합한 청정도
- 모듈 조립형, 튜브 맞대기 용접, VCR® 연결구
ALD（原子層蒸着）用バルブのカテゴリー
超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD3 / ALD6シリーズ
ALD3／ALD6ダイヤフラム・バルブは、非常に優れたサイクル・ライフおよび高速作動という特徴を備えており、原子層蒸着アプリケーションにおいて高いパフォーマンスを発揮します。
超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD7シリーズ
Swagelok® ALD7超高純度用ダイヤフラム・バルブは、半導体製造アプリケーションにおいてデバイスの歩留まりを最大化するのに必要な精度および一貫性を備えています。
Catalogues des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)
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■ サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能／■ 流量係数（Cv 値）：0.27 から1.7 まで／■ 最高使用温度：200°C（ALD20 の場合）／■ オプション：電気式インジケーター、光学式ポジション・センサーなど／■ 超高純度用途に適した316L VIM-VAR ステンレス鋼製ボディ／■ エンド・コネクション・タイプ：集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR ® メタル・ガスケット式面シール継手
Une nouvelle vanne et trois raisons pour lesquelles elle pourrait révolutionner le secteur des semi-conducteurs.
Découvrez comment la dernière innovation dans le domaine des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) est en train de changer la donne pour les fabricants de semi-conducteurs haute technologie.
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