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Swagelok^® ALD（原子層蒸着）用バルブ

超高純度用Swagelok ALD（原子層蒸着）用バルブは、非常に優れたサイクル・ライフ、高速作動、流量、高温対応性、極めて高い清浄度を備えており、最先端の半導体製造アプリケーションにおいて正確なプリカーサーの投与を実現します。

高い性能を誇るSwagelok ALDバルブは、スウェージロックが長年にわたって半導体製造業界における先端技術をリードしてきた証といっても過言ではありません。ALDバルブ技術を世界に送り出してからも、スウェージロックは半導体業界のお客さまと密接に協力し、そのニーズの理解に努めてきました。そして、市場において急速に進むイノベーションに対応する上で欠かせない、非常に高いレベルの精度、一貫性、クレンリネス（清浄度）、高いサイクル・ライフを備えたALDバルブを作り上げたのです。超高純度用ALDバルブの特徴：

サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能
流量係数（C_v値）：0.27～1.7
最高200°Cまでの高温環境に対応（高温モデルのアクチュエーターの場合）
電子または光学ポジション・センサー・オプション
超高純度アプリケーションに適した316L VIM-VARステンレス鋼を標準採用したバルブ・ボディ
集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR^®継手エンド・コネクション

ALD（原子層蒸着）用バルブのカタログ

構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報を確認することができます。

超高純度用バルブ原子層プロセス用

■ サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能／■ 流量係数（Cv 値）：0.27 から1.7 まで／■ 最高使用温度：200°C（ALD20 の場合）／■ オプション：電気式インジケーター、光学式ポジション・センサーなど／■ 超高純度用途に適した316L VIM-VAR ステンレス鋼製ボディ／■ エンド・コネクション・タイプ：集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR ® メタル・ガスケット式面シール継手

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