text.skipToContent text.skipToNavigation

Vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok^®

Les vannes très haute pureté pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok ont une durée de vie très longue, s’actionnent très rapidement, permettent des débits élevés, peuvent être immergées à haute température et offrent une propreté extrême, autant d’éléments nécessaires pour obtenir un dosage précis et maximiser la production de puces semi-conductrices dans des applications de pointe du secteur des semi-conducteurs.

Demander des informations sur les vannes ALD

ALD用バルブを世界に送り出してからも、スウェージロックは半導体製造装置メーカーやファブと密接に協力して高度なALD用バルブ・テクノロジーを提供し、市場において急速に進む技術革新に対応する上で欠かせない非常に高いレベルの精度、一貫性、クレンリネス（清浄度）、優れたサイクル・ライフの実現に努めてきました。Swagelok ALD用バルブは、デバイスの生産効率の向上をサポートし、ALDプロセスにおける課題を克服します。

超高純度用ALD用バルブの特徴：

サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能
流量係数（C_v値）：0.27～1.7
最高200°Cまでの高温環境に対応（高温モデルのアクチュエーターの場合）
電気式インジケーターまたは光学式ポジション・センサー・オプション
超高純度アプリケーションに適したクレンリネス（清浄度）
集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR^{®面シール継手エンド・コネクション}

ALD用バルブで課題を解決する

원자층 증착(ALD) 밸브 카탈로그

구성 재질, 압력 및 온도 등급, 옵션, 액세서리를 포함한 자세한 제품 정보를 찾을 수 있습니다.

다이어프램 밸브원자층 증착 ALD 용

원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구

ダウンロードお気に入りに追加する

View All Catalogs