世伟洛克® 原子层沉积 (ALD) 阀
世伟洛克超高纯原子层沉积 (ALD) 阀具有超高循环寿命、高速执行、流量、热浸没和超高洁净度，可在先进半导体制造应用中实现精确进料并尽可能地提高芯片产量。
索取 ALD 阀门信息ALD 阀门问世以来，我们一直与半导体工具 OEM 和晶圆厂密切合作，提供的先进 ALD 阀门技术具有超高的精度、一致性、洁净度和高循环寿命，是紧跟市场快速创新步伐所必需的。世伟洛克® ALD 阀门可支持芯片生产效率的提高，并克服 ALD 工艺通常面临的挑战。
我们的 ALD 超高纯阀具有以下特点：
- 快速动作下的超高循环寿命
- Cv 范围从 0.27 至 1.7
- 指定型号的承温能力高达 392°F (200°C)
- 电子或光学执行机构位置传感选购件
- 洁净度适合超高纯应用
- 模块化表面安装、卡套管对焊和 VCR® 端接
원자층 증착(ALD) 밸브 카테고리
UHP 다이어프램 밸브, ALD3 및 ALD6 시리즈
ALD3 및 ALD6 다이어프램 밸브는 원자층 증착(ALD) 애플리케이션에서 매우 긴 수명, 고속 작동, 강력한 성능을 제공합니다.
UHP 다이어프램 밸브, ALD7 시리즈
Swagelok® ALD7 초고순도 다이어프램 밸브는 반도체 제조 애플리케이션에서 칩 수율을 극대화하는 데 필요한 정밀도와 일관성을 제공합니다.
原子层沉积 (ALD) 阀目录
查找详细的产品信息，包括结构材料、额定压力和温度、选购件及配件。
원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
世伟洛克为您精心准备的产品、服务和解决方案
최적의 합금으로 반도체 수율 향상
반도체 제조업체가 어떻게 하면 핵심 유체 시스템 부품에 적절한 합금을 선택하여 종합적인 생산 수율과 장기 수익성을 높일 수 있는지 알아보십시오.
Q&A: 반도체 제조의 과거와 현재, 그리고 미래
반도체 장비 OEM, 마이크로칩 제조업체, 유체 시스템 솔루션 제공업체가 어떻게 지난 몇십 년 동안 협력을 통해 반도체 시장이 무어의 법칙에 따른 수요를 충족하도록 해왔으며, 이제부터는 어떻게 해야 할 것인지 알아보십시오.
광섬유 장비 제조업체가 맞춤형 솔루션으로 효율을 높인 사례
로젠달 넥스트롬(Rosendahl Nextrom)은 1980년대부터 Swagelok에 의존하여 사업을 확장해왔습니다. 이 회사가 경쟁업체보다 앞서며 업계 리더 지위를 유지하도록 해준 솔루션에 대해 자세히 알아보십시오.
첨단 과학 분야에 필요한 신뢰성 높은 유체 시스템 솔루션
핀란드의 희석 냉동기 제조업체인 블루포스(Bluefors)가 양자 컴퓨팅과 실험물리학 등을 구현하는 데 Swagelok의 유체 시스템 부품과 솔루션을 신뢰하는 이유를 소개합니다.