Мембранные клапаны Swagelok® сверхвысокой степени чистоты для атомно-слоевого осаждения (серии ALD3 и ALD6)
Мембранные клапаны Swagelok серий ALD3 и ALD6 используются в производстве полупроводников для контролируемого дозирования в методе атомно-слоевого осаждения (ALD). Устройства отличаются чрезвычайно долгим сроком службы, скоростью срабатывания и коэффициентом расхода вплоть до 0,62.
Запросить информацию о клапанах ALDКонструкция мембранных клапанов Swagelok® серий ALD3 и Swagelok® серий ALD6 сверхвысокой степени чистоты дает возможность производителям полупроводников выполнять стабильное, высокоскоростное дозирование газовых прекурсоров, необходимое для послойного наращивания микросхем в камерах осаждения. Такие клапаны отличаются сверхвысоким ресурсом цикла, работой с полным погружением на повышенных температурах, и пригодностью к использованию в сверхчистых системах.
Мембраны в сериях ALD3 и ALD6 изготовлены из специального сплава на основе кобальта, обеспечивающего прочность и коррозионную стойкость. Корпуса клапанов выполнены из нержавеющей стали 316L VIM-VAR, что позволяет использовать их в системах сверхвысокой степени чистоты. Седла изготовлены из фторированного высокочистого PFA для обеспечения широкого диапазона химической совместимости и устойчивости к вздутию и загрязнению. Клапаны можно настроены в нормально закрытый или нормально открытый пневматический режим. Для удовлетворения требований к установке доступны различные конфигурации.
Каким образом клапаны ALD улучшают производство полупроводников
Технические характеристики клапанов ALD3 и ALD6
| Рабочее давление | От вакуума до 145 psig (10,0 бар ман) |
| Давление разрыва | > 3200 psig (220 бар ман) |
| Давление срабатывания | 50–90 psig (3,5–6,2 бар ман) |
| Температура | 32–392°F (0–200°C) |
| Коэффициент расхода (Cv) | 0,27 или 0,62 |
| Материалы корпуса | Нерж. сталь 316L VIM-VAR |
| Материал мембраны | Специальный сплав на основе кобальта |
| Торцевые соединения | Тип (размер): Фитинг с торцевым уплотнением VCR® с внутренней резьбой (от 1/4 до 1/2 дюйма), фитинг с торцевым уплотнением VCR с наружной резьбой (от 1/4 до 1/2 дюйма), Модульное соединение для монтажа на поверхность, высокий расход, C-образное уплотнение (от 1,125 до 1,5 дюйма) |
Есть вопросы о клапанах ALD?
ALD3 and ALD6 Series Valves Catalogs
Locate detailed product information, including materials of construction, pressure and temperature ratings, options, and accessories.
ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available
Improve Semiconductor Yield with Optimized Alloys
Discover how semiconductor fabricators can improve end-to-end production yields and improve long-term profitability by selecting the right metals for critical fluid system components.
Learn About Material SelectionSwagelok Resources Curated for You
One New Valve: Three Reasons It Could Change Semiconductor Manufacturing
Find out how the latest innovation in atomic layer deposition (ALD) valve technology is changing the game for high-tech semiconductor manufacturers.
Q&A: Semiconductor Manufacturing Past, Present, and Future
Find out how collaboration between semiconductor tool OEMs, microchip manufacturers, and fluid system solutions providers has enabled the semiconductor market to keep up with the demands of Moore’s Law for decades, and where we go from here.
Fiber Optics Equipment Manufacturer Increases Efficiency with Customized Solutions
Since the 1980s, Rosendahl Nextrom has depended on Swagelok to move its business forward. Learn more about the solutions that allowed the company to outpace its competitors and remain an industry leader.
Reliable Fluid System Solutions for the Scientific Frontier
Learn why Finnish dilution refrigerator manufacturer Bluefors trusts Swagelok for fluid system components and solutions that help enable quantum computing, experimental physics, and more.