Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD) Swagelok^®

Desde que presentamos al mundo las válvulas ALD, hemos colaborado estrechamente con los fabricantes de equipos originales (OEM) y los fabricantes de semiconductores para mejorar el control de la dosis en el proceso ALD, ayudando así a los clientes a mantenerse al día con la rápida innovación, acelerar los plazos de desarrollo y mejorar el rendimiento de los chips en procesos cada vez más complejos. En toda nuestra gama de productos, las válvulas ALD Swagelok^® ofrecen la precisión, la consistencia, la limpieza y el ciclo de vida útil ultra alto necesarios para mantener un rendimiento estable en aplicaciones exigentes.

Diseñadas para ofrecer un control preciso del caudal, una actuación rápida y estabilidad a altas temperaturas, nuestras válvulas reducen la variabilidad en la dosificación, lo que permite aumentar el rendimiento de las obleas y acelerar los ciclos de desarrollo, con el fin de apoyar a los clientes en la comercialización más rápida de las tecnologías de próxima generación.

Nuestras válvulas ALD de ultra alta pureza tienen las siguientes características:

• Larga vida útil con actuación de alta velocidad
• Coeficientes de caudal desde 0,27 C_v hasta 1,7 C_v
• Capacidad de temperatura hasta 250 °C (482 °F) para determinados modelos
• Opciones de ajuste del caudal en campo
• Opción de detección electrónica u óptica de la posición del actuador
• Adecuadas para aplicaciones de ultra alta pureza, con opciones de cuerpo de acero inoxidable 316L VIM-VAR y aleación 22.
• Conexiones finales disponibles: montaje modular superficial, soldadura de tubo a tope y accesorios VCR^®.
• Disponibles en cuerpo único, así como en configuraciones de manifolds fabricados mediante fabricación aditiva (AM)

. Cómo la válvula ALD adecuada puede mejorar el control de procesos