Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD) Swagelok^®

Las válvulas Swagelok de ultra alta pureza para deposición de capas atómicas (ALD) ofrecen vida útil ultra alta, alta velocidad de actuación, los caudales, la inmersión térmica y la extrema limpieza necesarias para permitir una dosificación precisa y maximizar la producción de chips en aplicaciones avanzadas de fabricación de semiconductores.

Más Información sobre Válvulas ALD

Desde que introdujimos en el mercado mundial las válvulas ALD, hemos trabajado conjuntamente con los fabricantes de herramientas para semiconductores y las plantas para ofrecer una tecnología avanzada de válvulas ALD que ofrezca los niveles extremos de precisión, consistencia, limpieza y larga vida útil necesarios para seguir el rápido ritmo de innovación del mercado. Las válvulas ALD Swagelok^®pueden apoyar el incremento de la eficiencia en la producción de los chips y superar los retos que suelen ir asociados a los procesos ALD.

Nuestras válvulas de ultra alta pureza ALD se caracterizan por:

Ciclo de vida ultra-alto con actuación de alta velocidad
C_v desde 0,27 hasta 1,7
Capacidad de temperatura hasta 200°C (392°F) para modelos específicos.
Opción de detección de posición del actuador electrónica u óptica
Idoneidad de limpieza para las aplicaciones de ultra alta pureza
Conexiones finales para sistemas de montaje modular superficial, soldadura de tubo a tope y VCR^®

Vea Cómo las Válvulas ALD Solucionan Retos

원자층 증착(ALD) 밸브 카탈로그

구성 재질, 압력 및 온도 등급, 옵션, 액세서리를 포함한 자세한 제품 정보를 찾을 수 있습니다.

Ultrahigh-Purity Valves for Atomic Layer Processing, ALD, Diaphragm and Bellows Valves

ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available

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