Клапаны Swagelok® для атомно-слоевого осаждения (ALD)
Клапаны Swagelok сверхвысокой чистоты для атомно-слоевого осаждения (ALD) обеспечивают сверхвысокий циклический срок службы, высокую скорость срабатывания, уровни расхода, термопогружение и исключительную чистоту, необходимые для прецизионного дозирования и максимального увеличения выхода годных кристаллов в современном полупроводниковом производстве.
Запросить информацию о клапанах ALDС момента выхода клапанов ALD на рынок мы тесно сотрудничаем с OEM-изготовителями полупроводникового оборудования, развивая технологии контроля подачи и дозирования прекурсоров. Это помогает заказчикам адаптироваться к инновациям, сокращать сроки разработок и повышать выход годных кристаллов в технологических процессах. Ассортимент клапанов Swagelok® ALD обеспечивает максимальную точность, стабильность, чистоту и ресурс срабатываний, необходимые для надежной работы в сложных технологических процессах.
Качественное регулирование расхода, быстрый отклик и устойчивость к высоким температурам помогают нарастить производство микроэлектроники, сократить циклы R&D и быстрее выводить на рынок новые технологии.
Особенности клапанов Swagelok для ALD-процессов:
- Сверхвысокий ресурс работы и быстрое время отклика
- Коэффициент расхода в диапазоне от 0,27 Cv до 1,7 Сv
- Температурная стойкость до 250 °C (482 °F) для отдельных моделей
- Опция локальной настройки расхода
- Электронные или оптические датчики положения привода
- Исполнение для сверхчистых сред: корпус из нержавеющей стали 316L VIM-VAR или сплава Alloy 22
- Торцевые соединения: модульный монтаж на поверхность, сварка встык и фитинги VCR®
- Единый корпус либо блочные узлы, изготовленные по аддитивным технологиям (AM)
В какой степени правильный выбор клапана ALD помогает улучшить контроль техпроцесса
Категории клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD)
Клапаны сверхвысокой степени чистоты для систем с высоким расходом, серия ALD20
Технология атомно-слоевого осаждения с величиной расхода в 2-3 раза выше, чем у других клапанов ALD благодаря клапану сверхвысокой степени чистоты ALD20.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серии ALD3 и ALD6
Мембранные клапаны ALD3 и ALD6 обеспечивают сверхвысокий циклический срок службы, высокую скорость срабатывания и эффективную работу в системах атомно-слоевого осаждения.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7A
Мембранные клапаны Swagelok ALD7A сверхвысокой степени чистоты обеспечивают точность и единообразие, необходимые для максимального увеличения выхода годных кристаллов в полупроводниковой промышленности.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7C
Мембранные клапаны Swagelok сверхвысокой чистоты ALD7C обеспечивают высочайшую производительность, быстродействие и надежность процессов атомно-слоевого осаждения (ALD).
Каталоги клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD)
Подробные сведения о продукции: материалы изготовления, номинальные параметры давления и температуры, варианты исполнения, вспомогательные принадлежности.
Характеристики: Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания; Cv в диапазоне от 0,27 до 0,62; возможность работы при температуре до 392 °F (200 °C) с термостойкими приводами; вариант исполнения с электронным датчиком положения привода; подходят для применения в сверхчистых системах с корпусом из нержавеющей стали 316L VIM-VAR; торцевые соединения VCR®, под приварку встык и модульные торцевые соединения для монтажа на поверхность.
Внедрение новых прекурсоров с оптимизированной клапанной арматурой
Полупроводниковые прекурсоры нового поколения создают дополнительные требования к производственным процессам. Оптимизированный дизайн систем и технологии ALD помогают сохранять конкурентное преимущество.
ПодробнееРесурсы Swagelok специально для вас
Оптимизация критически важных процессов для улучшения рентабельности производства микросхем
Модернизация ключевых газовых и жидкостных систем: снижение рисков, контроль затрат и рост эффективности производства.
Инженерная поддержка Swagelok на объекте для эффективного производства микросхем
В условиях расширения и унификации полупроводниковых производств, техническое сопровождение играет ключевую роль в обеспечении высокого качества и надежности.