Высокотемпературные погружные мембранные клапаны Swagelok® (серия DH)
Высокотемпературные погружные мембранные клапаны Swagelok обеспечивают высокую скорость срабатывания и рассчитаны на оптимальную производительность для высокотемпературных процессов.
Запросить дополнительную информациюВысокотемпературные погружные мембранные клапаны серии DH предназначены для применения в системах, в которых клапан должен находиться полностью в высокотемпературной среде высокой степени чистоты, например в системах с атомно-слоевым осаждением и системах доставки прекурсоров. Его седло в закрытом исполнении из высокочистого перфторалкокси (PFA) обеспечивает широкий диапазон химической совместимости и превосходную сопротивляемость вздутию и загрязнению. Беспрепятственный путь прохождения потока в корпусе сокращает до минимума зоны скопления среды и максимально повышает пропускную способность.
Для удовлетворения требований разнообразных систем предлагаются клапаны с коэффициентами расхода до 0,60, разнообразными торцевыми соединениями размером 1/4 и 3/8 дюйма и модели с пневматическим ручным приводом — нормально закрытый привод обеспечивает возможность открытия или закрытия клапана за время менее 5 мс. Клапаны рассчитаны на оптимальную производительность при температуре 220 °C (428 °F).
Технические характеристики
| Рабочее давление | От вакуума до 70 фунтов на кв. дюйм, ман. (4,8 бара) |
| Давление разрыва | > 3200 фунтов на кв. дюйм, ман. (220 бар) |
| Давление срабатывания | От 60 до 90 фунтов на кв. дюйм, ман. (от 4,1 до 6,2 бара) |
| Температура | От 20 до 220 °C (от 70 до 428 °F) |
| Коэффициент расхода | |
| Соединения VCR® типа «H» | 0,60 при 20 °C (70 °F) 0,40 при 220 °C (428 °F) |
| Соединения VCR и остальные соединения | 0,30 при 20 °C (70 °F) 0,21 при 220 °C (428 °F) |
| Модульный корпус для монтажа на поверхность | 0,25 при 20 °C (70 °F) 0,21 при 220 °C (428 °F) |
| Материал корпуса | Нерж. сталь 316L VIM-VAR |
| Материал мембраны | Специальный сплав на основе кобальта |
| Торцевые соединения | |
| Тип | Фитинги с торцевым уплотнением VCR и VCR типа «H» с металлической прокладкой, соединение под приварку встык; модульное соединение для монтажа на поверхность |
| Размер | 1/4 и 3/8 дюйма 1,125 и 1,5 дюйма (модульный монтаж на поверхность) |
Каталоги высокотемпературных погружных мембранных клапанов Swagelok серии DH
Получите подробную информацию о продукции, в том числе о материалах изготовления, номинальных параметрах давления и температуры, вариантах исполнения и вспомогательных принадлежностях.
Swagelok thermal-immersion diaphragm valves offer high-speed actuation and are designed for optimum performance at 220 degrees C (428 degrees F) for high-temperature processes.
Правильный выбор клапана имеет решающее значение
Воспользуйтесь нашим калькулятором коэффициента расхода (Cv), чтобы подобрать клапан правильного размера в соответствии с вашими потребностями.
Использовать инструментРесурсы Swagelok специально для вас
Как правильно подобрать клапаны для вашей промышленной жидкостной или газовой системы
Узнайте, как применять на практике метод STAMPED для подбора клапанов, которые лучше всего соответствуют областям применения вашей промышленной жидкостной или газовой либо пробоотборной системы.
Вопросы и ответы. Полупроводниковое производство — вчера, сегодня, завтра
Узнайте, как сотрудничество между OEM-производителями оборудования, производителями микросхем и поставщиками решений для жидкостных и газовых систем позволило полупроводниковой отрасли десятилетиями придерживаться закона Мура, а также о том, куда двигаться дальше.
Повышение выхода годных полупроводниковых изделий благодаря применению усовершенствованных сплавов
Узнайте, как производители полупроводников могут повысить выход годных изделий на каждом этапе производственного процесса, а также рентабельность в долгосрочной перспективе за счет правильного подбора металлов для важнейших компонентов жидкостных и газовых систем.
Один новый клапан — и три причины, которые позволят ему изменить производство полупроводников
Узнайте, как новейшие достижения в технологии производства клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD) меняют условия игры в сфере высокотехнологичного производства полупроводников.