Válvulas de Diafragma Swagelok® de Ultra Alta Pureza para Proceso de Capas Atómicas (Serie ALD7)
La válvula Swagelok ALD7 de ultra alta pureza ofrece la consistencia y capacidad de caudal, la velocidad del actuador, la temperatura y la limpieza necesaria para maximizar la producción de chips en las herramientas de fabricación de semiconductores nuevas o existentes.
Solicite Información sobre la Válvula ALD7La válvula de diafragma Swagelok® ALD7 de ultra alta pureza para procesos de deposición de capas atómicas (ALD) permite a los fabricantes de herramientas para semiconductores y fabricantes de chips optimizar la producción de chips viables y mejorar la rentabilidad aumentando la consistencia y capacidad de caudal, la velocidad del actuador y el rendimiento a altas temperaturas necesarios para superar las limitaciones de los procesos de producción. Ofrece un rendimiento consistente de válvula a válvula, de dosis a dosis y de cámara a cámara a lo largo de un ciclo de vida ultra-alto.
La válvula Swagelok ALD7:
- Permite una dosificación rápida y precisa a lo largo de millones de ciclos, incluso en las aplicaciones más exigentes, y tiene una tecnología de actuador mejorada con un tiempo de respuesta de sólo 5 ms.
- Es resistente a los gases corrosivos gracias a su cuerpo de acero inoxidable Swagelok 316L VIM-VAR de ultra alta pureza.
- Puede calentarse hasta 200°C manteniendo el actuador neumático por debajo de la temperatura máxima de servicio de 150°C.
- Tiene un coeficiente de caudal (Cv) de hasta 0,7 (hay disponibles versiones personalizadas opcionales (ajustadas en fábrica) con un coeficiente de caudal de 0,5–0,7 Cv).
- Mantiene el mismo tamaño que las válvulas ALD industriales Swagelok y tiene un aislador térmico integrado para maximizar el espacio limitado cerca de la cámara de reacción.
Vea de Cerca las Válvulas ALD7
Especificaciones de la Válvula ALD7
| Presión de Servicio | Vacío hasta 10,0 bar (145 psig) |
| Presión de Rotura | > 220 bar (3200 psig) |
| Presión de Actuación | 4,1 a 8,27 bar (60 a 120 psig) |
| Temperatura de Servicio | Cuerpo estándar de la válvula de 0°C (32°F) a 200°C (392°F) |
| Coeficiente de Caudal | Cv estándar, 0,7 (ajustado en fábrica) |
| Materiales del Cuerpo | Acero inoxidable 316L VIM-VAR |
| Material del Diafragma | Super aleación con base de cobalto |
| Conexiones Finales | Tipo: Accesorios VCR®, soldadura de tubo a tope, montaje modular superficial de alto caudal con junta C de 1,5 pulg. |
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Catálogos de Válvulas Series ALD7
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원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
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