Vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok®
Les vannes très haute pureté pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok ont une durée de vie très longue, s’actionnent très rapidement, permettent des débits élevés, peuvent être immergées à haute température et offrent une propreté extrême, autant d’éléments nécessaires pour obtenir un dosage précis et maximiser la production de puces semi-conductrices dans des applications de pointe du secteur des semi-conducteurs.
Demander des informations sur les vannes ALDALD用バルブを世界に送り出してからも、スウェージロックは半導体製造装置メーカーやファブと緊密に連携し、ALDの供給制御の向上に取り組んできました。これにより急速な技術革新に対応し、開発期間を短縮し、ますます複雑化するプロセスにおいてデバイスの歩留まりを向上できるよう支援しています。Swagelok®ALD用バルブは、製品ラインアップ全体を通じて、過酷なアプリケーションにおいても安定したパフォーマンスを維持するのに欠かせない精度、一貫性、クレンリネス（清浄度）、優れたサイクル・ライフを備えています。
厳密な流量制御、高速作動、高温安定性を実現するSwagelok ALD用バルブは、供給のばらつきを低減し、ウェハ歩留まりの向上および開発サイクルの短縮を支援することで、次世代技術をより迅速に市場に投入できるようサポートします。
超高純度用ALD用バルブの特徴：
- サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能
- 流量係数（Cv値）：0.27～1.7
- 最高250°Cまでの高温環境に対応（高温モデルのアクチュエーターの場合）
- 現場での流量調節が可能なバルブもございます
- オプション：電気式インジケーター、光学式ポジション・センサーなど
- 超高純度用途に適した316L VIM-VARステンレス鋼製および合金22製ボディ
- エンド・コネクション・タイプ：集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR®メタル・ガスケット式面シール継手
- シングル・ボディに加え、積層造形（AM）マニホールドもございます
Catégories de vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)
Vannes très haute pureté pour applications haut débit, série ALD20
Faites progresser la technologie du dépôt par couche atomique avec des débits 2 à 3 fois plus élevés qu’avec d’autres vannes ALD grâce à la vanne très haute pureté ALD20.
Vannes à membrane très haute pureté, séries ALD3 et ALD6
Conçues pour les applications de dépôt par couche atomique, les vannes à membrane ALD3 et ALD6 se caractérisent par une durée de vie très longue, un actionnement ultrarapide et une grande robustesse.
Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7A
La vanne à membrane très haute pureté ALD7 Swagelok® offre la précision et la régularité nécessaires pour maximiser la production de puces dans le secteur des semi-conducteurs.
Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7C
Swagelok ALD7C ultrahigh-purity diaphragm valves deliver performance, speed, and reliability in the most advanced ALD applications.
原子層蒸着（ALD）用バルブのカタログ
構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報につきましては、以下の資料をご参照ください。
ALD3, ALD6, ALD7A, and ALD7C Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 482°F (250°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available
バルブを最適化することで新しい半導体プリカーサーを導入する
次世代半導体プリカーサーは、製造における新たな課題を突きつけています。最適化されたシステム設計およびALD用バルブ技術を導入することで、常に業界をリードし続けることができます。
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