Vannes à membrane très haute pureté Swagelok® pour le procédé de dépôt par couche atomique (séries ALD3 et ALD6)
Intégrées aux équipements utilisés pour fabriquer des semi-conducteurs, les vannes à membrane Swagelok des séries ALD3 et ALD6 permettent d’obtenir le dosage contrôlé nécessaire au procédé de dépôt par couche atomique (ALD). Elles ont pour caractéristiques une durée de vie très longue, un actionnement ultrarapide et des coefficients de débit allant jusqu’à 0,62.
Demander des informations sur les vannes ALDLas válvulas de diafragma Swagelok® ALD3 y Swagelok® ALD6 de ultra alta pureza están diseñadas para ofrecer a los fabricantes de semiconductores una dosificación fiable y de alta velocidad de los gases precursores utilizados para construir microchips capa a capa en las cámaras de deposición. Estas válvulas de ultra alta pureza y alto rendimiento tienen un ciclo de vida útil ultra largo, son totalmente sumergibles a temperaturas elevadas e idóneas para las aplicaciones de ultra alta pureza.
Los diafragmas utilizados en las válvulas ALD3 y ALD6 están compuestos por un material de superaleación a base de cobalto que ofrece solidez y resistencia a la corrosión. El cuerpo de las válvulas es de acero inoxidable 316L VIM-VAR, lo que las hace perfectas para aplicaciones de ultra alta pureza. Los asientos de las válvulas están hechos de PFA fluorado de ultra alta pureza para permitir un amplio rango de compatibilidad química y resistencia a la deformación y la contaminación. Estas válvulas pueden ser configuradas para actuación neumática normalmente cerrada y normalmente abierta, y están disponibles en una variedad de configuraciones para adaptarse a diferentes requisitos de instalación.
Vea Cómo las Válvulas ALD Mejoran la Fabricación de Semiconductores
Especificaciones de las Válvulas ALD3 y ALD6
| Presión de Servicio | Vacío hasta 10,0 bar (145 psig) |
| Presión de Rotura | > 220 bar (3200 psig) |
| Presión de Actuación | 3,5 a 6,2 bar (50 a 90 psig) |
| Temperatura | 0 a 200°C (32 a 392°F) |
| Coeficiente de Caudal (Cv) | 0,27 o 0,62 |
| Materiales del Cuerpo | Acero inoxidable 316L VIM-VAR |
| Material del Diafragma | Super aleación con base de cobalto |
| Conexiones Finales | Tipo (Tamaño): Accesorio de cierre frontal VCR® hembra (1/4 pulg. a 1/2 pulg.), accesorio de cierre frontal VCR macho (1/4 pulg. a 1/2 pulg.), montaje modular superficial de alto caudal con junta C (1,125 pulg. a 1,5 pulg.) |
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Catálogos de Válvulas Series ALD3 y ALD6
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Besonders hohe Zykluslebensdauer bei hoher Betätigungsgeschwindigkeit; Cv-Bereich von 0,27 bis 0,62; Mit Hochtemperatursteuerköpfen einsetzbar bis 200°C (392°F); Optionaler elektronischer Steuerkopf-Stellungsmelder; Geeignet für ultrahochreine Anwendungen mit Körper aus Edelstahl 316L VIM-VAR; VCR®, Stumpfschweißenden und modulare Bauteile für Flächenbefestigung
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