用于原子层沉积工艺的世伟洛克®超高纯隔膜阀（ALD3 和 ALD6 系列）
世伟洛克 ALD3 和 ALD6 系列隔膜阀用于半导体制造设备，以实现原子层沉积 (ALD) 处理所需的可控计量。它们具有超高循环寿命、快速驱动和高达 0.62 的流量系数。
索取 ALD 阀门信息超高纯世伟洛克® ALD3 和世伟洛克® ALD6 隔膜阀旨在为半导体制造商提供可靠、快速的前驱体定量，用于在沉积腔室中逐层搭建微芯片。这些高性能超高纯阀门具有超高的循环寿命、高温下的完全浸入性以及超高纯应用的适用性。
ALD3 和 ALD6 阀门使用的隔膜由钴基超级合金材料组成，具有高强度和耐腐蚀性。其阀体采用 316L VIM-VAR 不锈钢，因此适用于超高纯应用。阀座由氟化高纯度 PFA 制成，具有广泛的化学相容性以及抗膨胀和抗污染能力。这些阀门可配备常闭和常开气动执行，并有多种配置可供选择，以满足不同的安装要求。
ALD3 和 ALD6 阀门规格
| 工作压力 | 真空至 145 psig (10.0 bar) |
| 爆破压力 | >3200 psig (220 bar) |
| 执行压力 | 50 至 90 psig（3.5 至 6.2 bar） |
| 温度 | 32° 至 392°F（0° 至 200°C） |
| 流量系数 (Cv) | 0.27 或 0.62 |
| 阀体材料 | 316L VIM-VAR 不锈钢 |
| 隔膜材料 | 钴基超级合金 |
| 端接 | 类型（尺寸）：内螺纹 VCR® 面密封接头（1/4 in. 至 1/2 in.），外螺纹 VCR 面密封接头（1/4 in. 至 1/2 in.），模块化表面安装高流量 C 型密封（1.125 in. 至 1.5 in.） |
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Ventile der Serien ALD3 und ALD6—Kataloge
Hier finden Sie ausführliche Produktinformationen zu Werkstoffen, Druckstufen, Auslegungstemperaturen, Optionen und Zubehör.
원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
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