Swagelok® Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves for Atomic Layer Processing (ALD3 and ALD6 Series)
Swagelok ALD3 and ALD6 series diaphragm valves are used in semiconductor manufacturing tools to achieve the controlled dosing necessary for atomic layer deposition (ALD) processing. They offer ultrahigh cycle life, high-speed actuation, and flow coefficients up to 0.62.
Request ALD Valve InformationКонструкция мембранных клапанов Swagelok® серий ALD3 и Swagelok® серий ALD6 сверхвысокой степени чистоты дает возможность производителям полупроводников выполнять стабильное, высокоскоростное дозирование газовых прекурсоров, необходимое для послойного наращивания микросхем в камерах осаждения. Такие клапаны отличаются сверхвысоким ресурсом цикла, работой с полным погружением на повышенных температурах, и пригодностью к использованию в сверхчистых системах.
Мембраны в сериях ALD3 и ALD6 изготовлены из специального сплава на основе кобальта, обеспечивающего прочность и коррозионную стойкость. Корпуса клапанов выполнены из нержавеющей стали 316L VIM-VAR, что позволяет использовать их в системах сверхвысокой степени чистоты. Седла изготовлены из фторированного высокочистого PFA для обеспечения широкого диапазона химической совместимости и устойчивости к вздутию и загрязнению. Клапаны можно настроены в нормально закрытый или нормально открытый пневматический режим. Для удовлетворения требований к установке доступны различные конфигурации.
Каким образом клапаны ALD улучшают производство полупроводников
Технические характеристики клапанов ALD3 и ALD6
| Рабочее давление | От вакуума до 145 psig (10,0 бар ман) |
| Давление разрыва | > 3200 psig (220 бар ман) |
| Давление срабатывания | 50–90 psig (3,5–6,2 бар ман) |
| Температура | 32–392°F (0–200°C) |
| Коэффициент расхода (Cv) | 0,27 или 0,62 |
| Материалы корпуса | Нерж. сталь 316L VIM-VAR |
| Материал мембраны | Специальный сплав на основе кобальта |
| Торцевые соединения | Тип (размер): Фитинг с торцевым уплотнением VCR® с внутренней резьбой (от 1/4 до 1/2 дюйма), фитинг с торцевым уплотнением VCR с наружной резьбой (от 1/4 до 1/2 дюйма), Модульное соединение для монтажа на поверхность, высокий расход, C-образное уплотнение (от 1,125 до 1,5 дюйма) |
Есть вопросы о клапанах ALD?
Каталоги клапанов серий ALD3 и ALD6
Получите подробные сведения о продукции, в том числе о материалах изготовления, номинальных параметрах давления и температуры, вариантах исполнения и вспомогательных принадлежностях.
원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
최적의 합금으로 반도체 수율 향상
반도체 제조업체가 어떻게 하면 핵심 유체 시스템 부품에 적절한 합금을 선택하여 종합적인 생산 수율과 장기 수익성을 높일 수 있는지 알아보십시오.
재질 선택에 대해 알아보기고객별 맞춤 선별 Swagelok 리소스
하나의 신제품 밸브: 반도체 제조 기술을 바꿀 수 있는 세 가지 이유
혁신적인 최신 원자층 증착(ALD, Atomic Layer Deposition) 밸브 기술이 어떻게 첨단 기술 반도체 제조 시장을 변화시킬 수 있는지 소개합니다.
Q&A: 반도체 제조의 과거와 현재, 그리고 미래
반도체 장비 OEM, 마이크로칩 제조업체, 유체 시스템 솔루션 제공업체가 어떻게 지난 몇십 년 동안 협력을 통해 반도체 시장이 무어의 법칙에 따른 수요를 충족하도록 해왔으며, 이제부터는 어떻게 해야 할 것인지 알아보십시오.
광섬유 장비 제조업체가 맞춤형 솔루션으로 효율을 높인 사례
로젠달 넥스트롬(Rosendahl Nextrom)은 1980년대부터 Swagelok에 의존하여 사업을 확장해왔습니다. 이 회사가 경쟁업체보다 앞서며 업계 리더 지위를 유지하도록 해준 솔루션에 대해 자세히 알아보십시오.
첨단 과학 분야에 필요한 신뢰성 높은 유체 시스템 솔루션
핀란드의 희석 냉동기 제조업체인 블루포스(Bluefors)가 양자 컴퓨팅과 실험물리학 등을 구현하는 데 Swagelok의 유체 시스템 부품과 솔루션을 신뢰하는 이유를 소개합니다.