Swagelok®原子層蒸着（ALD）用バルブ
Swagelok超高純度用ALD（原子層蒸着）用バルブは、非常に優れたサイクル・ライフ、高速作動、流量、高温対応性、極めて高い清浄度を備えており、最先端の半導体製造アプリケーションにおいて正確なプリカーサーの供給を実現し、デバイスの歩留まりを最大化します。
ALD用バルブについて問い合わせるALD用バルブを世界に送り出してからも、スウェージロックは半導体製造装置メーカーやファブと緊密に連携し、ALDの供給制御の向上に取り組んできました。これにより急速な技術革新に対応し、開発期間を短縮し、ますます複雑化するプロセスにおいてデバイスの歩留まりを向上できるよう支援しています。Swagelok®ALD用バルブは、製品ラインアップ全体を通じて、過酷なアプリケーションにおいても安定したパフォーマンスを維持するのに欠かせない精度、一貫性、クレンリネス（清浄度）、優れたサイクル・ライフを備えています。
厳密な流量制御、高速作動、高温安定性を実現するSwagelok ALD用バルブは、供給のばらつきを低減し、ウェハ歩留まりの向上および開発サイクルの短縮を支援することで、次世代技術をより迅速に市場に投入できるようサポートします。
超高純度用ALD用バルブの特徴：
- サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能
- 流量係数（Cv値）：0.27～1.7
- 最高250°Cまでの高温環境に対応（高温モデルのアクチュエーターの場合）
- 現場での流量調節が可能なバルブもございます
- オプション：電気式インジケーター、光学式ポジション・センサーなど
- 超高純度用途に適した316L VIM-VARステンレス鋼製および合金22製ボディ
- エンド・コネクション・タイプ：集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR®メタル・ガスケット式面シール継手
- シングル・ボディに加え、積層造形（AM）マニホールドもございます
원자층 증착(ALD) 밸브 카테고리
UHP 다이어프램 밸브, ALD3 및 ALD6 시리즈
ALD3 및 ALD6 다이어프램 밸브는 원자층 증착(ALD) 애플리케이션에서 매우 긴 수명, 고속 작동, 강력한 성능을 제공합니다.
UHP 다이어프램 밸브, ALD7A 시리즈
Swagelok® ALD7 초고순도 다이어프램 밸브는 반도체 제조 애플리케이션에서 칩 수율을 극대화하는 데 필요한 정밀도와 일관성을 제공합니다.
UHP 다이어프램 밸브, ALD7C 시리즈
Swagelok ALD7C ultrahigh-purity diaphragm valves deliver performance, speed, and reliability in the most advanced ALD applications.
原子層蒸着（ALD）用バルブのカタログ
構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報につきましては、以下の資料をご参照ください。
원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
バルブを最適化することで新しい半導体プリカーサーを導入する
次世代半導体プリカーサーは、製造における新たな課題を突きつけています。最適化されたシステム設計およびALD用バルブ技術を導入することで、常に業界をリードし続けることができます。
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アプリケーションを最適化し、半導体ファブの収益性を高める
主要な流体システムのアプリケーションをターゲットにすることで、リスクの低減、コストの抑制、ファブの全体的なパフォーマンス向上を実現します。
現場でのエンジニアリング専門知識を活かしてファブのパフォーマンスをサポートする
ファブの規模拡大や標準化が進む中、フィールド・エンジニアリングを通じて重要な専門知識を提供することで、効率性および一貫性の向上を実現します。