Swagelok^® 원자층 증착(ALD) 밸브

Swagelok 초고순도 원자층 증착(ALD) 밸브는 첨단 반도체 제조 애플리케이션에서 정밀한 투입량을 보장하고 칩 수율을 극대화하는 데 필요한 극도로 높은 사이클 수명, 고속 작동, 유량, 고온 봉입성(thermal immersibility), 극한의 청정도를 제공합니다.

ALD 밸브 정보 요청

Swagelok은 세계에 ALD 밸브를 선보인 이래로, 반도체 도구 장비사 및 제조업체와 면밀한 협력을 통해 시장의 빠른 혁신 속도에 대응하는 데 필요한 극한 수준의 정밀도, 일관성, 청정도, 높은 사이클 수명을 제공하는 첨단 ALD 밸브 기술을 공급하고 있습니다. Swagelok^® ALD 밸브는 높은 칩 생산 효율을 지원하며, 일반적으로 ALD 공정과 관련된 문제를 극복할 수 있습니다.

Swagelok ALD 초고순도 밸브의 특징:

고속 작동과 극도로 높은 사이클 수명
0.27~1.7의 C_v 범위
특정 모델의 경우 최고 200°C(392°F)의 온도 지원
전자식 또는 광학식 액추에이터 위치 감지 옵션
초고순도 애플리케이션에 적합한 청정도
모듈 조립형, 튜브 맞대기 용접, VCR^® 연결구

ALD 밸브로 어떻게 과제를 해결할 수 있는지 알아보기

ALD（原子層蒸着）用バルブのカタログ

構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報につきましては、以下の資料をご参照ください。

Мембранные клапаны для напыления с точностью до атомного слоя ALD

Характеристики: Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания; Cv в диапазоне от 0,27 до 0,62; возможность работы при температуре до 392 °F (200 °C) с термостойкими приводами; вариант исполнения с электронным датчиком положения привода; подходят для применения в сверхчистых системах с корпусом из нержавеющей стали 316L VIM-VAR; торцевые соединения VCR®, под приварку встык и модульные торцевые соединения для монтажа на поверхность.

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