Swagelok® 원자층 증착(ALD) 밸브
Swagelok 초고순도 원자층 증착(ALD) 밸브는 첨단 반도체 제조 애플리케이션에서 정밀한 투입량을 보장하고 칩 수율을 극대화하는 데 필요한 극도로 높은 사이클 수명, 고속 작동, 유량, 고온 봉입성(thermal immersibility), 극한의 청정도를 제공합니다.
ALD 밸브 정보 요청Swagelok은 세계에 ALD 밸브를 선보인 이래로, 반도체 도구 장비사 및 제조업체와 면밀한 협력을 통해 시장의 빠른 혁신 속도에 대응하는 데 필요한 극한 수준의 정밀도, 일관성, 청정도, 높은 사이클 수명을 제공하는 첨단 ALD 밸브 기술을 공급하고 있습니다. Swagelok® ALD 밸브는 높은 칩 생산 효율을 지원하며, 일반적으로 ALD 공정과 관련된 문제를 극복할 수 있습니다.
Swagelok ALD 초고순도 밸브의 특징:
- 고속 작동과 극도로 높은 사이클 수명
- 0.27~1.7의 Cv 범위
- 특정 모델의 경우 최고 200°C(392°F)의 온도 지원
- 전자식 또는 광학식 액추에이터 위치 감지 옵션
- 초고순도 애플리케이션에 적합한 청정도
- 모듈 조립형, 튜브 맞대기 용접, VCR® 연결구
Категории клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD)
Клапаны сверхвысокой степени чистоты для систем с высоким расходом, серия ALD20
Технология атомно-слоевого осаждения с величиной расхода в 2-3 раза выше, чем у других клапанов ALD благодаря клапану сверхвысокой степени чистоты ALD20.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серии ALD3 и ALD6
Мембранные клапаны ALD3 и ALD6 обеспечивают сверхвысокий циклический срок службы, высокую скорость срабатывания и эффективную работу в системах атомно-слоевого осаждения.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7
Мембранные клапаны Swagelok® ALD7 сверхвысокой степени чистоты обеспечивают точность и единообразие, необходимые для максимального увеличения выхода годных кристаллов в полупроводниковой промышленности.
Catalogues des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)
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Характеристики: Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания; Cv в диапазоне от 0,27 до 0,62; возможность работы при температуре до 392 °F (200 °C) с термостойкими приводами; вариант исполнения с электронным датчиком положения привода; подходят для применения в сверхчистых системах с корпусом из нержавеющей стали 316L VIM-VAR; торцевые соединения VCR®, под приварку встык и модульные торцевые соединения для монтажа на поверхность.
Une nouvelle vanne et trois raisons pour lesquelles elle pourrait révolutionner le secteur des semi-conducteurs.
Découvrez comment la dernière innovation dans le domaine des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) est en train de changer la donne pour les fabricants de semi-conducteurs haute technologie.
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