Válvulas de Diafragma Swagelok® de Alto Caudal y Ultra Alta Pureza para Aplicaciones de Procesos de Capas Atómicas (Serie ALD20)
Las válvulas Swagelok ALD20 de ultra alta pureza tienen una gran capacidad de caudal, ideal para procesos de deposición de capas atómicas que requieren gases precursores a baja presión de vapor.
Solicite Información sobre la Válvula ALD20대유량 Swagelok® ALD20 초고순도 밸브는 Swagelok® ALD 밸브에서 기대할 수 있는 신뢰성과 성능을 제공하는 동시에, 이전에 달성할 수 없었던 온도 안정성과 유량 가능성을 지원합니다. 따라서, 제조업체는 다양한 공정과 저증기압 화학 기술을 실험하면서 공정을 크게 변경하지 않고도 첨단 기술을 개발하는 데 필요한 균일한 가스 증착을 달성할 수 있습니다.
Swagelok ALD20 밸브의 특징:
- 기존 ALD 밸브와 동일한 점유 공간(1.5인치)에서 1.2 Cv의 유량을 제공하며, 장비 교체 없이 개선된 성능을 제공합니다
- 약간 큰(1.75인치) 표준 유형으로 더 뛰어난 1.7 Cv를 제공하며, 이는 현재 시판 중인 극도로 높은 사이클 수명의 초고순도 밸브에서 가장 높은 유량입니다—
- 10°C(50°F)에서 최대 200°C(392°F)까지 가스 박스에 봉입 가능하므로, 가열 도중 액추에이터를 차단할 필요가 없으며 증착 일관성이 개선됩니다
- 316L VIM-VAR 스테인리스강 또는 22 합금 몸체 재질 옵션은 더 강력한 내식성을 제공합니다
- 5μ인치 Ra 표면처리의 고정밀 연마 벨로우즈 덕분에 극도로 높은 사이클 수명 동안 공정 무결성을 유지하면서 세정 작업이 가능합니다
- 투입량 조건을 충족하는 정밀하고 일관적인 유량에 필요한 반복 가능한 고속(<10ms) 작동을 제공합니다
맞춤 설정 유량 계수도 사용 가능합니다.
ALD20 밸브로 반도체 가공과 관련된 과제를 극복하는 방법을 알아보십시오
ALD20 밸브 사양
| 사용 압력 | 진공~20 psig(1.4 bar) |
| 파열 압력 | >3200 psig(220 bar) |
| 작동 압력 | 70~90 psig(4.9~6.2 bar) |
| 온도 | 10°~200°C(50°~392°F) |
| 유량 계수(Cv) | 1.2(MSM) 혹은 1.7(직선형) |
| 몸체 재질 | 316L VIM-VAR 혹은 22 합금 |
| 벨로우즈 재질 | 22 합금(5μ인치 Ra 표면처리) |
| 연결구 | 종류(크기): 암나사 VCR® 피팅(1/2인치), 회전형 수나사 VCR 피팅(1/2인치), 튜브 맞대기 용접, 0.50인치 길이(1/2인치 × 0.049인치), 모듈 조립형 대유량 C-씰(1.5인치) |
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원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
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