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原子层沉积 (ALD) 阀

Swagelok® Atomschichtsedimentierungsventile (Atomic Layer Deposition - ALD)

Swageloks ultrahochreine Atomschichtsedimentierungsventile (ALD) liefern eine besonders hohe Zyklusdauer, hohe Betätigungsgeschwindigkeit und Durchflussraten, thermische Eintauchdichtheit und extreme Sauberkeit, die für die präzise Dosiering in fortgeschrittenen Halbleiterproduktions-Anwendungen erforderlich sind.

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Unsere Hochleistungs-ALD-Ventile sind ein wichtiges Beispiel dafür, wie Swagelok bereits seit langem in der Halbleiterproduktion technisch führend ist. Seit der Einführung der ALD-Ventiltechnologie arbeitet Swagelok eng mit Kunden in der Halbleiterbranche zusammen, um deren Bedürfnisse zu verstehen und dann ALD-Ventile zu entwickeln, welche die höchste Genauigkeit, Konsistenz, Sauberkeit und eine lange Zyklusdauer liefern, die notwendig ist, um mit dem schnellen Innovationstempo auf dem Markt schritthalten zu können. Unsere ultrahochreinen ALD-Ventile bieten Folgendes:

  • Besonders hohe Zykluslebensdauer bei hoher Betätigungsgeschwindigkeit
  • Durchflusskoeffizienten (Cv) von 0,27 bis 1,7
  • Vollständige Eintauchbarkeit bis 200°C (392°F) mit Hochtemperatur-Steuerköpfen
  • Geeignet für ultrahochreine Anwendungen mit Körper aus Edelstahl 316L VIM-VAR
  • Modulare Flächenmontage, Stumpfschweißenden und Swagelok VCR®-Endanschlüsse
  • Optionaler elektronischer oder optischer Steuerkopf-Stellungsmelder

Atomschichtsedimentierungsventile (Atomic Layer Deposition - ALD)—Kataloge

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