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Vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)

Vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok®

Les vannes très haute pureté pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok ont une durée de vie très longue, s’actionnent très rapidement, permettent des débits élevés, peuvent être immergées à haute température et offrent une propreté extrême, autant d’éléments nécessaires pour obtenir un dosage précis et maximiser la production de puces semi-conductrices dans des applications de pointe du secteur des semi-conducteurs.

Demander des informations sur les vannes ALD

Depuis le lancement par Swagelok de la technologie des vannes ALD, nous avons travaillé en étroite collaboration avec des clients du secteur des semi-conducteurs – fabricants de puces et fabricants d’outillage – pour créer des vannes ALD sophistiquées offrant les niveaux extrêmes de précision, de régularité et de propreté ainsi que la durée de vie nécessaires pour suivre le rythme rapide de l’innovation sur ce marché. Les vannes ALD Swagelok® peuvent accroître les rendements de la production de puces semi-conductrices et surmonter les difficultés souvent associées au procédé de dépôt par couche atomique.

Les caractéristiques de nos vannes ALD très haute pureté sont les suivantes :

  • Durée de vie très longue et actionnement ultra-rapide
  • Cv de 0,27 à 1,7
  • Utilisation à des températures allant jusqu’à 200°C (392°F) pour certains modèles
  • Dispositif électronique ou optique de détection de la position de l’actionneur proposé en option
  • Propreté adaptée aux applications de très haute pureté
  • Montage modulaire en surface, tube à souder bout à bout et raccords VCR®

Découvrir les problèmes résolus par les vannes ALD

Catégories de vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)

Vannes très haute pureté pour applications haut débit, série ALD20

Vannes très haute pureté pour applications haut débit, série ALD20

Faites progresser la technologie du dépôt par couche atomique avec des débits 2 à 3 fois plus élevés qu’avec d’autres vannes ALD grâce à la vanne très haute pureté ALD20.

Vannes à membrane très haute pureté, séries ALD3 et ALD6

Vannes à membrane très haute pureté, séries ALD3 et ALD6

Conçues pour les applications de dépôt par couche atomique, les vannes à membrane ALD3 et ALD6 se caractérisent par une durée de vie très longue, un actionnement ultrarapide et une grande robustesse.

Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7

Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7

La vanne à membrane très haute pureté ALD7 Swagelok® offre la précision et la régularité nécessaires pour maximiser la production de puces dans le secteur des semi-conducteurs.

ALD(原子層蒸着)用バルブのカタログ

構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報につきましては、以下の資料をご参照ください。

半導体産業向けのSwagelok超高純度用ALD20シリーズ・バルブのクリーンルームでの組み立て

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今回は、原子層蒸着(ALD)バルブの最新テクノロジーが、ハイテク半導体メーカーにもたらす影響について紹介します。

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