Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD) Swagelok®
Las válvulas Swagelok de ultra alta pureza para deposición de capas atómicas (ALD) ofrecen vida útil ultra alta, alta velocidad de actuación, los caudales, la inmersión térmica y la extrema limpieza necesarias para permitir una dosificación precisa y maximizar la producción de chips en aplicaciones avanzadas de fabricación de semiconductores.
Más Información sobre Válvulas ALDDesde que introdujimos en el mercado mundial las válvulas ALD, hemos trabajado conjuntamente con los fabricantes de herramientas para semiconductores y las plantas para ofrecer una tecnología avanzada de válvulas ALD que ofrezca los niveles extremos de precisión, consistencia, limpieza y larga vida útil necesarios para seguir el rápido ritmo de innovación del mercado. Las válvulas ALD Swagelok®pueden apoyar el incremento de la eficiencia en la producción de los chips y superar los retos que suelen ir asociados a los procesos ALD.
Nuestras válvulas de ultra alta pureza ALD se caracterizan por:
- Ciclo de vida ultra-alto con actuación de alta velocidad
- Cv desde 0,27 hasta 1,7
- Capacidad de temperatura hasta 200°C (392°F) para modelos específicos.
- Opción de detección de posición del actuador electrónica u óptica
- Idoneidad de limpieza para las aplicaciones de ultra alta pureza
- Conexiones finales para sistemas de montaje modular superficial, soldadura de tubo a tope y VCR®
Atomic Layer Deposition (ALD) Valves Categories
Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD3 and ALD6 Series
ALD3 and ALD6 diaphragm valves offer ultrahigh cycle life, high-speed actuation, and strong performance in atomic layer deposition applications.
Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD7 Series
Мембранные клапаны Swagelok® ALD7 сверхвысокой степени чистоты обеспечивают точность и единообразие, необходимые для максимального увеличения выхода годных кристаллов в полупроводниковой промышленности.
Ultrahigh-Purity Valves for High-Flow Applications, ALD20 Series
Advance atomic layer deposition technology with flow rates 2–3x higher than other ALD valves with the ALD20 ultrahigh-purity valve.
Catálogos de Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD)
Encuentre información detallada de producto, incluidos materiales de construcción, valores nominales de presión y temperatura, las opciones y los accesorios.
Характеристики: Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания; Cv в диапазоне от 0,27 до 0,62; возможность работы при температуре до 392 °F (200 °C) с термостойкими приводами; вариант исполнения с электронным датчиком положения привода; подходят для применения в сверхчистых системах с корпусом из нержавеющей стали 316L VIM-VAR; торцевые соединения VCR®, под приварку встык и модульные торцевые соединения для монтажа на поверхность.
Una Nueva Válvula: Tres Razones por las que Podría Cambiar la Fabricación del Semiconductor
Descubra cómo la última innovación en la tecnología de válvulas de deposición de capas atómicas (ALD), está cambiando las cosas para los fabricantes de semiconductores de alta tecnología.
Descubra Más Cosas de la Tabla PeriódicaRecursos Swagelok Elaborados para Vd.
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첨단 과학 분야에 필요한 신뢰성 높은 유체 시스템 솔루션
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