Swagelok^® Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Seit Einführung der ALD-Ventiltechnologie arbeitet Swagelok eng mit OEMs und Halbleiterherstellern an der Weiterentwicklung von Dosierungslösungen für ALD-Prozesse – so helfen wir unseren Kunden dabei, mit dem rasanten Innovationstempo Schritt zu halten, Entwicklungszeiten zu verkürzen und die Chipausbeute in zunehmend komplexeren Prozessen zu optimieren. Alle ALD-Ventile im Produktportfolio von Swagelok^® bieten die Präzision, Konsistenz, Sauberkeit und extrem hohe Lebensdauer, die für eine zuverlässige Leistung in anspruchsvollen Anwendungen unumgänglich ist.

Unsere Ventile sind auf eine präzise Durchflussregelung, schnelle Betätigung und hohe Temperaturbeständigkeit ausgelegt. Sie reduzieren Schwankungen in der Dosierung und tragen so zu einer höheren Wafer-Ausbeute sowie schnelleren Entwicklungszyklen bei – damit unsere Kunden die Technologien der nächsten Generation schneller auf den Markt bringen können.

Vorteile unserer ultrahochreinen ALD-Ventile:

• Äußerst lange Lebensdauer mit hohen Stellgeschwindigkeiten
• Durchflusskoeffizienten von 0,27 C_v bis 1,7 C_v
• Temperaturbeständig bis 250 °C (482 °F) bei bestimmten Modellen
• Optionale Einstellung der Durchflussleistung direkt vor Ort
• Elektronische oder optische Stellungssensoren für Stellantriebe optional verfügbar
• Geeignet für ultrahochreine Anwendungen; wahlweise aus Edelstahl 316L VIM-VAR oder Legierung 22 gefertigt
• Modulare Flächenmontage, Stumpfschweißfitting und VCR^®-Endanschlüsse verfügbar
• Als Einzelkörper oder als additiv gefertigte Verteilerbaugruppe erhältlich

Wie das richtige ALD-Ventil zu einer verbesserten Prozesssteuerung beiträgt