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원자층 증착(ALD) 밸브

Swagelok® ALD(原子層蒸着)用バルブ

超高純度用Swagelok ALD(原子層蒸着)用バルブは、非常に優れたサイクル・ライフ、高速作動、流量、高温対応性、極めて高い清浄度を備えており、最先端の半導体製造アプリケーションにおいて正確なプリカーサーの投与を実現します。

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高い性能を誇るSwagelok ALDバルブは、スウェージロックが長年にわたって半導体製造業界における先端技術をリードしてきた証といっても過言ではありません。ALDバルブ技術を世界に送り出してからも、スウェージロックは半導体業界のお客さまと密接に協力し、そのニーズの理解に努めてきました。そして、市場において急速に進むイノベーションに対応する上で欠かせない、非常に高いレベルの精度、一貫性、クレンリネス(清浄度)、高いサイクル・ライフを備えたALDバルブを作り上げたのです。超高純度用ALDバルブの特徴:

  • サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能
  • 0.27~1.7の流量係数
  • 最高200°Cまでの高温環境に対応(高温モデルのアクチュエーターの場合)
  • 超高純度アプリケーションに適した316L VIM-VARステンレス鋼を標準採用したバルブ・ボディ
  • 集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、Swagelok VCR®継手エンド・コネクション
  • 電子または光学ポジション・センサー・オプション

ALD(原子層蒸着)用バルブのカタログ

構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報を確認することができます。

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