Válvulas de Diafragma Swagelok® de Alto Caudal y Ultra Alta Pureza para Aplicaciones de Procesos de Capas Atómicas (Serie ALD20)
Las válvulas Swagelok ALD20 de ultra alta pureza tienen una gran capacidad de caudal, ideal para procesos de deposición de capas atómicas que requieren gases precursores a baja presión de vapor.
Solicite Información sobre la Válvula ALD20La válvula de alto caudal Swagelok® ALD20 de ultra alta pureza ofrece la fiabilidad y el rendimiento esperados de las válvulas ALD Swagelok®, a la vez que permite una estabilidad de temperatura y unas posibilidades de caudal antes inalcanzables. Permite a los fabricantes experimentar con diferentes procesos y productos químicos de baja presión de vapor, a fin de conseguir la deposición uniforme de gas necesaria para desarrollar la tecnología avanzada sin cambiar significativamente el proceso.
La válvula Swagelok ALD20, puede:
- Suministrar un caudal de 1,2 Cv con el mismo tamaño (1,5 pulg.) que las válvulas ALD existentes, ofreciendo un rendimiento mejorado sin necesidad de modificar la instalación.
- Suministrar un caudal aún mayor de 1,7 Cv con una variante estándar ligeramente más grande (1,75 pulg.)—el caudal más alto disponible actualmente para una válvula de ultra alta pureza y ciclo de vida útil ultra alto
- Estar sumergida en una caja de gas desde 10°C (50°F) hasta 200°C (392°F), eliminando la necesidad de aislar el actuador durante el caldeado y mejorando la consistencia de la deposición.
- Trabajar con una mayor resistencia a la corrosión con las opciones de cuerpo de acero inoxidable 316L VIM-VAR o aleación 22
- Apoyar la operación limpia a lo largo de un ciclo de vida útil ultra-alto para mayor integridad del proceso gracias a un fuelle altamente pulido con un acabado de 5 μpulg. Ra.
- Actuar repetidamente a alta velocidad (<10 ms) para obtener un caudal preciso y constante que cumpla los requisitos de dosificación.
También hay disponibles coeficientes de caudal personalizados
Vea Cómo la Válvula ALD20 Ayuda a Superar los Obstáculos del Procesado de Semiconductores
Especificaciones de la Válvula ALD20
| Presión de Servicio | Vacío hasta 1,4 bar (20 psig) |
| Presión de Rotura | > 220 bar (3200 psig) |
| Presión de Actuación | 4,9 a 6,2 bar (70 a 90 psig) |
| Temperatura | 10 a 200°C (50 a 392°F) |
| Coeficiente de Caudal (Cv) | 1,2 (MSM) o 1,7 (modelo recto) |
| Materiales del Cuerpo | 316L VIM-VAR o Aleación 22 |
| Material del Fuelle | Aleación 22 (Acabado a 5 μpulg. Ra de rugosidad media) |
| Conexiones Finales | Tipo (Tamaño): Accesorio Swagelok VCR hembra® (1/2 pulg), accesorio VCR macho giratorio (1/2 pulg), soldadura de tubo a tope de longitud de 0,50 pulg (1/2 pulg × 0,049 pulg), montaje modular superficial de alto caudal (1,5 pulg) con junta en C. |
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Catálogos de Válvulas Series ALD20
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원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
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