Vannes très haute pureté Swagelok® pour le procédé de dépôt par couche atomique à haut débit (série ALD20)
Les vannes très haute pureté ALD20 Swagelok offrent une forte capacité de débit parfaitement adaptée au procédé de dépôt par couche atomique qui requiert l’utilisation de gaz précurseurs à faible pression de vapeur.
Demander des informations sur les vannes ALD20La vanne très haute pureté ALD20 Swagelok® à débit élevé offre non seulement la fiabilité et l’efficacité attendues d’une vanne ALD Swagelok®, mais aussi la possibilité d’atteindre une stabilité de la température et des capacités de débit jusque-là inaccessibles. Elle permet aux fabricants d’expérimenter différents procédés et l’utilisation de précurseurs à faible pression de vapeur pour parvenir aux dépôts uniformes de gaz nécessaires au développement de technologies de pointe sans devoir apporter des modifications majeures aux procédés de fabrication.
La vanne ALD20 Swagelok :
- A un coefficient de débit (Cv) de 1,2 pour un encombrement identique (1,5 po) à celui des vannes ALD actuelles, offrant ainsi des performances accrues sans que le matériel en place ne doive être réorganisé
- Peut avoir un coefficient de débit encore plus élevé (Cv de 1,7) pour un encombrement légèrement supérieur (1,75 po) — soit le coefficient de débit le plus élevé actuellement disponible pour une vanne très haute pureté à durée de vie très longue.
- Peut être immergée complètement dans une unité d’alimentation en gaz à des températures comprises entre 10°C (50°F) et 200°C (392°F), ce qui élimine la nécessité d’isoler l’actionneur pendant le chauffage et améliore la régularité des dépôts
- Résiste plus efficacement à la corrosion grâce à un corps fabriqué en acier inoxydable 316L VIM-VAR ou en alliage 22
- Favorise une exploitation propre sur une très longue durée, contribuant ainsi à l’intégrité des procédés, grâce à un soufflet poli jusqu’à obtenir un Ra de 0,13 μm (5 µpo)
- Se caractérise par des déplacements reproductibles et ultrarapides (<10 ms) qui garantissent un débit régulier et précis répondant aux impératifs de dosage
Des coefficients de débit fixés par le client sont également possibles.
Caractéristiques techniques des vannes ALD20
| Pression de service | Du vide jusqu’à 1,4 bar (20 psig) |
| Pression d’éclatement | > 220 bar (3200 psig) |
| Pression d’actionnement | 4,9 à 6,2 bar (70 à 90 psig) |
| Température | 10 à 200°C (50 à 392°F) |
| Coefficient de débit (Cv) | 1,2 (montage modulaire en surface) ou 1,7 (config. droite) |
| Matériaux du corps | Acier inoxydable 316L VIM-VAR ou alliage 22 |
| Matériau du soufflet | Alliage 22 (Ra de 0,13 µm [5 μpo]) |
| Raccordements d’extrémité | Type (taille) : Raccord VCR® femelle (1/2 po), raccord VCR mâle tournant (1/2 po), tube à souder bout à bout, 0,50 po de long (1/2 po x 0,049 po), joint en C haut débit pour montage modulaire en surface (1,5 po) |
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Catalogues des vannes de la série ALD20
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원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
Une nouvelle vanne et trois raisons pour lesquelles elle pourrait révolutionner le secteur des semi-conducteurs.
Découvrez comment la dernière innovation dans le domaine des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) est en train de changer la donne pour les fabricants de semi-conducteurs haute technologie.
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