
Vannes très haute pureté Swagelok® pour le procédé de dépôt par couche atomique à haut débit (série ALD20)
Les vannes très haute pureté ALD20 Swagelok offrent une forte capacité de débit parfaitement adaptée au procédé de dépôt par couche atomique qui requiert l’utilisation de gaz précurseurs à faible pression de vapeur.
Demander des informations sur les vannes ALD20La vanne très haute pureté ALD20 Swagelok® à débit élevé offre non seulement la fiabilité et l’efficacité attendues d’une vanne ALD Swagelok®, mais aussi la possibilité d’atteindre une stabilité de la température et des capacités de débit jusque-là inaccessibles. Elle permet aux fabricants d’expérimenter différents procédés et l’utilisation de précurseurs à faible pression de vapeur pour parvenir aux dépôts uniformes de gaz nécessaires au développement de technologies de pointe sans devoir apporter des modifications majeures aux procédés de fabrication.
La vanne ALD20 Swagelok :
- A un coefficient de débit (Cv) de 1,2 pour un encombrement identique (1,5 po) à celui des vannes ALD actuelles, offrant ainsi des performances accrues sans que le matériel en place ne doive être réorganisé
- Peut avoir un coefficient de débit encore plus élevé (Cv de 1,7) pour un encombrement légèrement supérieur (1,75 po) — soit le coefficient de débit le plus élevé actuellement disponible pour une vanne très haute pureté à durée de vie très longue.
- Peut être immergée complètement dans une unité d’alimentation en gaz à des températures comprises entre 10°C (50°F) et 200°C (392°F), ce qui élimine la nécessité d’isoler l’actionneur pendant le chauffage et améliore la régularité des dépôts
- Résiste plus efficacement à la corrosion grâce à un corps fabriqué en acier inoxydable 316L VIM-VAR ou en alliage 22
- Favorise une exploitation propre sur une très longue durée, contribuant ainsi à l’intégrité des procédés, grâce à un soufflet poli jusqu’à obtenir un Ra de 0,13 μm (5 µpo)
- Se caractérise par des déplacements reproductibles et ultrarapides (<10 ms) qui garantissent un débit régulier et précis répondant aux impératifs de dosage
Des coefficients de débit fixés par le client sont également possibles.
Caractéristiques techniques des vannes ALD20
Pression de service | Du vide jusqu’à 1,4 bar (20 psig) |
Pression d’éclatement | > 220 bar (3200 psig) |
Pression d’actionnement | 4,9 à 6,2 bar (70 à 90 psig) |
Température | 10 à 200°C (50 à 392°F) |
Coefficient de débit (Cv) | 1,2 (montage modulaire en surface) ou 1,7 (config. droite) |
Matériaux du corps | Acier inoxydable 316L VIM-VAR ou alliage 22 |
Matériau du soufflet | Alliage 22 (Ra de 0,13 µm [5 μpo]) |
Raccordements d’extrémité | Type (taille) : Raccord VCR® femelle (1/2 po), raccord VCR mâle tournant (1/2 po), tube à souder bout à bout, 0,50 po de long (1/2 po x 0,049 po), joint en C haut débit pour montage modulaire en surface (1,5 po) |
Besoin d’aide pour choisir une vanne ALD ?
ALD20 Series Valves Catalogs
Locate detailed product information, including materials of construction, pressure and temperature ratings, options, and accessories.
원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구

One New Valve: Three Reasons It Could Change Semiconductor Manufacturing
Find out how the latest innovation in atomic layer deposition (ALD) valve technology is changing the game for high-tech semiconductor manufacturers.
Unlock More of the Periodic TableSwagelok Resources Curated for You

Improve Semiconductor Yield with Optimized Alloys
Discover how semiconductor fabricators can improve end-to-end production yields and improve long-term profitability by selecting the right metals for critical fluid system components.

Q&A: 반도체 제조의 과거와 현재, 그리고 미래
반도체 장비 OEM, 마이크로칩 제조업체, 유체 시스템 솔루션 제공업체가 어떻게 지난 몇십 년 동안 협력을 통해 반도체 시장이 무어의 법칙에 따른 수요를 충족하도록 해왔으며, 이제부터는 어떻게 해야 할 것인지 알아보십시오.

광섬유 장비 제조업체가 맞춤형 솔루션으로 효율을 높인 사례
로젠달 넥스트롬(Rosendahl Nextrom)은 1980년대부터 Swagelok에 의존하여 사업을 확장해왔습니다. 이 회사가 경쟁업체보다 앞서며 업계 리더 지위를 유지하도록 해준 솔루션에 대해 자세히 알아보십시오.

첨단 과학 분야에 필요한 신뢰성 높은 유체 시스템 솔루션
핀란드의 희석 냉동기 제조업체인 블루포스(Bluefors)가 양자 컴퓨팅과 실험물리학 등을 구현하는 데 Swagelok의 유체 시스템 부품과 솔루션을 신뢰하는 이유를 소개합니다.