Válvulas de Diafragma Swagelok® de Alto Caudal y Ultra Alta Pureza para Aplicaciones de Procesos de Capas Atómicas (Serie ALD20)
Las válvulas Swagelok ALD20 de ultra alta pureza tienen una gran capacidad de caudal, ideal para procesos de deposición de capas atómicas que requieren gases precursores a baja presión de vapor.
Solicite Información sobre la Válvula ALD20The high-flow Swagelok® ALD20 ultrahigh-purity valve provides the reliability and performance expected of Swagelok® ALD valves while also enabling previously unattainable temperature stability and flow possibilities. It enables manufacturers to experiment with different processes and low-vapor pressure chemistries to achieve the uniform gas deposition needed to develop advanced technology without significantly changing processes.
The Swagelok ALD20 valve can:
- Deliver a of 1.2 Cv flow rate in the same footprint (1.5 in.) as existing ALD valves, offering improved performance without requiring retooling
- Provide an even greater 1.7 Cv with a slightly larger (1.75 in.) standard variant—the highest flow rate currently available from an ultrahigh-cycle life, ultrahigh-purity valve
- Be immersed in a gas box from 50°F (10°C) up to 392°F (200°C), eliminating the need to isolate the actuator during heating and improving deposition consistency
- Provide enhanced corrosion resistance with 316L VIM-VAR stainless steel or Alloy 22 body material options
- Support clean operation over the course of an ultrahigh cycle life for process integrity thanks to a highly polished bellows with a 5 μin. Ra finish
- Deliver high-speed (<10ms) repeatable actuation for precise, consistent flow to meet dosing requirements
Custom-set flow coefficients are also available.
Learn How The ALD20 Valve Helps Overcome Semiconductor Processing Hurdles
ALD20 Valve Specifications
| Working Pressure | Vacuum to 20 psig (1.4 bar) |
| Burst Pressure | >3200 psig (220 bar) |
| Actuation Pressure | 70 to 90 psig (4.9 to 6.2 bar) |
| Temperature | 50° to 392°F (10° to 200°C) |
| Flow Coefficient (Cv) | 1.2 (MSM) or 1.7 (straight pattern) |
| Body Materials | 316L VIM-VAR or Alloy 22 |
| Bellows Material | Alloy 22 (5 μin. Ra finished) |
| End Connections | Type (Size): Female VCR® fitting (1/2 in.), rotatable male VCR fitting (1/2 in.), tube butt weld, 0.50 in. long (1/2 in. x 0.049 in.), modular surface-mount high-flow C-seal (1.5 in.) |
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ALD20 Series Valves Catalogs
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원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
One New Valve: Three Reasons It Could Change Semiconductor Manufacturing
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